公司自主研發的HoFCVD設備是新一代真空鍍膜領域的革命性技術。該設備成功攻克了在 “超高質量、超低溫、超大面積、超高性價比”極限條件下，實現硅、氮化硅、金剛石及高性能聚合物（如PTFE、PGMA）等納米級功能薄膜高效制備的世界性難題，為光伏、顯示、半導體及軍工等產業升級提供了變革性的裝備解決方案。當前，公司設備已導入多家行業頭部企業，同時獲得匯川技術等十余家專業投資機構投資。市場與資本的雙重驅動，正推動公司邁入體系化、規?；l展的全面加速新階段。